通信世界网消息（CWW）7月27日，据美国媒体《信息报》报道，国内一家企业已开始小规模量产首款国产浸没式深紫外（DUV）光刻机，预计今年将向中芯国际、华虹半导体和长鑫存储交付约5台设备，并计划于2027年将产量提高至约20台。
据两位不愿具名的知情人士透露，这家总部企业位于上海，目前已启动浸润式DUV光刻机的批量生产。而该类设备是台积电等全球主要芯片制造商在生产中广泛采用的核心装备之一。
据介绍，为加快研发进度，该公司已整合了国内其他企业的浸润式DUV研发团队，其中包括政府支持的芯片设备初创企业上海昱量升技术。
报道称，这款国产光刻机主打28纳米成熟制程芯片生产，依托多重图形化曝光工艺，还可满足7纳米级别芯片的制造需求。
若该国产DUV光刻机成功在芯片制造产线上实现稳定量产，将有望部分替代目前由荷兰阿斯麦（ASML）主导的进口设备。
